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工業(yè)光催化廢氣處理設(shè)備
光催化凈化器
技術(shù)原理:
UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對(duì)有機(jī)物具有極強(qiáng)的氧化作用,對(duì)工業(yè)廢氣及其它刺激性異味有立竿見(jiàn)影的清除效果。
工業(yè)廢氣利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后,凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線(xiàn)光束及臭氧對(duì)工業(yè)廢氣進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng),使工業(yè)廢氣物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳,再通過(guò)排風(fēng)管道排出室外。
利用高能UV光束裂解工業(yè)廢氣中細(xì)菌的分子鍵,破壞細(xì)菌的核酸(DNA),再通過(guò)臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng),達(dá)到凈化及殺滅細(xì)菌的目的.從凈化空氣效率考慮,我們選擇了-C波段紫外線(xiàn)和臭氧發(fā)結(jié)合電暈電流較高化裝置采用脈沖電暈放吸附技術(shù)相結(jié)合的原理對(duì)有害氣體進(jìn)行消除,其中-C波段紫外線(xiàn)主要用來(lái)去除硫化氫、氨、乙酸乙酯、乙烷、丙酮、尿烷、樹(shù)脂、等氣體的分解和裂變,是有機(jī)物變?yōu)闊o(wú)機(jī)化合物。
凈化裝置由初濾單元、-C波段紫外線(xiàn)裝置,降解收集,臭氧發(fā)生器及過(guò)濾單元等設(shè)備和部件組成。
uv光催化設(shè)備分解過(guò)程:
環(huán)保設(shè)備光氧等離子一體機(jī)廢氣凈化器由等離子模塊和臭氧UV紫外線(xiàn)燈管組成。
本產(chǎn)品利用紫外線(xiàn)光束照射惡臭氣體,從而改變惡臭氣體的分子結(jié)構(gòu)降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物,再通過(guò)臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng),達(dá)到脫臭的目的。
光催化設(shè)備只是多數(shù)廢氣中的物質(zhì)和成分具有分解凈化作用,但是由于光催化設(shè)備的工作條件是利用光氧原理進(jìn)行的,所以在處理廢氣時(shí)候也有局限性,需要搭配其他類(lèi)型的廢氣凈化設(shè)備才可以達(dá)到效果。
適用于噴漆廢氣處理、油墨廢氣處理、塑膠廢氣處理、化工廢氣處理、制藥廢氣處理、污水池臭氣處理、鉰料廢氣處理、鑄造廢氣處理等各種有污染源惡臭氣體的脫臭凈化 (廣泛用于覆膜砂廢氣處理,飼料發(fā)酵廢氣處理、噴漆廢氣處理、漆包線(xiàn)廢氣處理等)。
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光催化廢氣處理設(shè)備
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