半導體指的是在常溫下導電性能介于導體與絕緣體之間的一種材料,主要應用于集成電路、消費電子、通信系統、光伏發(fā)電、照明、大功率電源轉換等領域,在半導體工業(yè)加工的過程中將會有部分的氣體排出,那半導體工業(yè)的廢氣有毒嗎,怎么處理好?
半導體工業(yè)在加工的過程中會使用到光刻膠、蝕刻液、清洗劑、顯影劑等溶劑,而這些溶劑是含有大量的有機物成分,排放出來的廢氣含有HCl、氨、HF等危險污染物,而主要處理的是具有揮發(fā)性的VOCs。VOCs污染物為有機化合物,在濃度較高且有火花或靜電情況下,極易發(fā)生閃爆現象。半導體在制造過程中一般的污染源包括顆粒污染物、金屬離子和化學物質等,而這些都是屬于有害的污染物。
半導體廢氣處理方法根據工業(yè)廢氣成分進行廢氣處理設備的選擇:
噴淋塔:
噴淋塔可分為酸液噴淋塔、堿液噴淋塔、循環(huán)水噴淋塔,因在進行廢氣處理的過程中會涉及到酸堿等不同的污染物質,設備會根據廢氣的性質、采用的處理工藝將設備的材料劃分為東莞玻璃鋼噴淋塔、東莞pp噴淋塔、東莞不銹鋼噴淋塔。
噴淋塔對各種腐蝕性氣體凈化處理效果明顯,能有效去除氯化氫氣體(HCl)、氟化氫氣體(HF)、氨氣(NH3)、硫酸霧(H2SO4)、鉻酸霧(CrO3)、氰氫酸氣體(HCN)、堿蒸氣(NaOH)、福爾馬林(HCHO)等水溶性氣體。東莞噴淋塔廢氣凈化效率高、操作管理簡單、使用壽命長,凈化處理后的酸堿廢氣排放達到國家排放標準。
催化燃燒裝置:
RCO催化燃燒設備的運作原理是將有機廢氣通過過濾器過濾后,進入設備的活性炭吸附模塊,對廢氣進行吸附、濃縮,再借助催化劑燃燒的方式對吸附、濃縮后的廢氣進行凈化處理,燃燒的過程為無焰燃燒,燃燒后的廢氣會轉化為二氧化碳和水。
在催化氧化爐內被加熱到250~300℃的有機廢氣在貴金屬催化劑的作用下發(fā)生無焰燃燒,有機廢氣被氧化分解成二氧化碳和水,達到廢氣處理的目的,廢氣處理后的潔凈氣體經煙囪達標排放。燃燒后的熱空氣通過換熱器進行降溫,降溫后的氣體部分排放,部分用于活性炭脫附再生以達到廢熱利用和節(jié)能的目的。
半導體工業(yè)廢氣是具有毒性的,不同的工業(yè)采用的工藝原材料不同,因此采用的廢氣處理設備以及工藝都是不一樣的,具體的處理方案可咨詢我們。
來源:環(huán)保